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脉冲激光沉积系统 180 Laser MBE/PLD北京正通远恒科技有限公司

性能参数

产品名称: 脉冲激光沉积系统 180 Laser MBE/PLD
产品型号: 180 Laser MBE/PLD
产品规格: 套
产品产地: 美国
品牌商标: Neocera
价    格: 面议元
更新时间: 2023/1/30 17:08:16
浏览人数:2835
诚信指数:5点
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使用范围:仅限科研使用,不能应用于临床
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北京正通远恒科技有限公司
地址:
北京市朝阳区胜古中路2号院7号楼A座611室
邮编:
100029
所在区域:
北京·北京
电话:
010-64415767
传真:
010-64425485
联系人:
销售部
邮件:
公司展台:

产品详细描述

产品简介

激光 MBE 是普遍采用的术语,该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法,高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电 子衍射(RHEED)的联合应用,用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。 正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数 RHEED 通常在高真空(<10-6 torr)环境下使用。然而,因为在某些特殊情况下,PLD 采用较高的压力,差动抽气是必要 的,维持 RHEED 电子枪的工作压力,同时保持 500 mTorr 的 PLD 工艺压力。同时,设计完整的系统消除磁场对电子束 的影响是至关重要的。Neocera 激光 MBE 系统可以添加客户定制系统,比如超高真空激光衬底加热器,用于集成原位分 析系统(XPS/ARPERS 等)。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS等)。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS 系统。


产品特点

独立的MAPLE PLD系统
有机和聚合物薄膜的沉积
在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射和直流离子源
Load-lockable衬底阶段
与XPS分析系统集成,直接将晶片从PLD系统转移到分析系统


技术参数

1.PLD腔尺寸:12 " /18 "直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180型号)

2.衬底尺寸:1厘米× 1厘米(激光加热器) ; 直径2”(辐射加热器)

3.衬底加热:1000 ℃(激光加热器);850℃(辐射加热器)

4. 目标旋转:直径 6 x 1 "或3 x 2 "

5.工业气体:氧气和氮气100 SCCM的mfc

6. 软件:Windows 7/Labview 2013

7. RHEED电子枪与软件:a.射柱电压:30keV;b.运行压力:500 mTorr/氧;c. RHEED屏幕/快门。d. CCD摄像机和数据采集软件

 

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